EDX-8000B光譜膜厚儀

EDX-8000B光譜膜厚儀介紹：

1.微光斑X 射線聚焦光學(xué)器件：

通過將高亮度一次X射線照射到0.02mm的區(qū)域，實(shí)現(xiàn)高精度測量。

2.硅漂移探測器 (SDD) 作為檢測系統(tǒng)：

高計(jì)數(shù)率硅漂移檢測器可實(shí)現(xiàn)高精度測量。

3.高分辨率樣品觀測系統(tǒng)：

精確的點(diǎn)位測量功能有助于提高測量精度。

4.全系列標(biāo)配薄膜FP無標(biāo)樣分析法軟件，可同時(shí)對多層鍍層及全金鍍層厚度和成分進(jìn)行測量。

配合用戶友好的軟件界面，可以輕松地進(jìn)行日常測量。

EDX-8000B型XRF鍍層測厚儀背景介紹：

材料的鍍層厚度是一個(gè)重要的生產(chǎn)工藝參數(shù)，其選用的材質(zhì)和鍍層厚度直接影響了零件或產(chǎn)品的耐腐蝕性、裝飾效果、導(dǎo)電性、產(chǎn)品的可靠性和使用壽命，因此，鍍層厚度的控制在產(chǎn)品質(zhì)量、過程控制、成本控制中都發(fā)揮著重要作用。英飛思開發(fā)的EDX8000B鍍層測厚儀是專門針對于鍍層材料成分分析和鍍層厚度測定。EDX-8000B光譜膜厚儀其主要優(yōu)點(diǎn)是準(zhǔn)確，快速，無損，操作簡單，測量速度快。可同時(shí)分析多達(dá)五層材料厚度，并能對鍍層的材料成分進(jìn)行快速鑒定。

XRF鍍層測厚儀工作原理：

鍍層測厚儀EDX8000B是將X射線照射在樣品上，通過從樣品上反射出來的第二次X射線的強(qiáng)度來測量鍍層等金屬薄膜的厚度，因?yàn)闆]有接觸到樣品且照射在樣品上的X射線能量很低，所以不會(huì)對樣品造成損壞。同時(shí)，測量的也可以在10秒-30秒內(nèi)完成。

膜厚儀EDX8000B產(chǎn)品特點(diǎn)：

1.測試快速，無需樣品制備

2.可通過內(nèi)置高清CCD攝像機(jī)來觀察及選擇定位微小面積鍍層厚度的測量，避免直接接觸，污染或破壞被測物

3.備有多種以上的鍍層厚度測量和成分分析時(shí)所需的標(biāo)準(zhǔn)樣品

4.可覆蓋元素周期表Mg鎂到U鈾

5.SDD檢測器，具有高計(jì)數(shù)范圍和出色的能量分辨率

6.可切換準(zhǔn)直器和濾光片

膜厚儀EDX8000B應(yīng)用場景：

1.EDX8000B鍍層測厚儀可以用于PCB鍍層厚度測量，PCB鍍層分析，金屬電鍍鍍層分析

2.測量的對象包括鍍層、敷層、貼層、涂層、化學(xué)生成膜等

3.可測量離子鍍、電鍍、蒸鍍、等各種金屬鍍層的厚度

4.鍍鉻，例如帶有裝飾性鍍鉻飾面的塑料制品

5.鋼上鋅等防腐涂層

6.電路板和柔性PCB上的涂層

7.插頭和電觸點(diǎn)的接觸面

8.電鍍液分析

9.貴金屬鍍層，如金基上的銠材料分析

10.電鍍液分析

11.分析電子和半導(dǎo)體行業(yè)的功能涂層

12.分析硬質(zhì)材料涂層，例如 CrN、TiN或TiCN

13.可拓展增加RoHS有害元素分析功能

技術(shù)參數(shù)：

膜厚儀EDX8000B可分析的常見鍍層材料：可測試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應(yīng)用：如Cr/Fe, Ni/Fe, Ag/Cu,Zn/Fe等

多涂鍍層應(yīng)用：如Au/Ni/Cu, Ag/Pb/Zn, Ni/Cu/Fe等

合金鍍層應(yīng)用：如ZnNi/Fe, ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應(yīng)用：如NiP/Fe, 同時(shí)分析鎳磷含量和鍍層厚度